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在高溫下抽真空,腔體降溫后真空指標是否能更優(yōu)

更新時間:2026-02-25 點擊量:112

超高真空系統(tǒng)(以金屬密封情況為主)主要是以SS316(或者SS304)材質(zhì)為主的腔體作為承載,并裝配有不同功能的部件(也都是滿足超高真空低放氣率要求的材料組成)。
真空腔體內(nèi)表面一般都會經(jīng)過拋光處理(機械拋光、電化學(xué)拋光等手段),以達到表面更加平整、致密的效果;而真空系統(tǒng)暴露大氣(vent)后,不單是腔體內(nèi)表面,腔體內(nèi)所有部件都會吸附(adsorb)氣體(大部分是水氣);如果不進行烘烤(即在室溫條件下),這些吸附的水氣會緩慢地脫附(desorb),這個過程將會持續(xù)非常長的時間。
烘烤過程會加速水氣的脫附速度,極大縮短系統(tǒng)進入超高真空(E-10 mbar量級)的時間。

系統(tǒng)在完成安裝(或者破真空恢復(fù)后),需在真空好于E-5 mbar的情況下,開始烘烤。
超高真空系統(tǒng)都會安裝有不同的電子部件,烘烤溫度一般設(shè)置為120攝氏度(超出水的汽化溫度),烘烤時間會根據(jù)系統(tǒng)的復(fù)雜程度來設(shè)置,一般不少于48小時;烘烤過程中,需要間歇性(例如,每10個小時)對離子規(guī)進行放氣處理。
烘烤效果的判斷,一般以期望得到的極限真空的100倍為參照,例如,極限真空為5E-10 mbar120度烘烤條件下,真空達到2E-8 mbar,即可停止烘烤;如果真空系統(tǒng)較復(fù)雜,可以在E-8mbar量級下維持更長的時間。


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